新型顯示和半導體用掩膜版及關鍵原材料技術交流會成功舉辦

為加快國內新型顯示與半導體用中高端掩膜版及關鍵原材料關鍵核心技術突破 ，優化現有材料性能 ，推動新產品係列化發展 ，增強產業鏈協同創新 ，由電子化工新材料產業聯盟聯合中國電子材料行業協會石英材料分會共同主辦 ，成都新太陽城光電有限公司承辦的“新型顯示和半導體用掩膜版及關鍵原材料技術交流會”於2023年11月30日在成都成功舉辦 。

會議現場

會議由中國電子材料行業協會常務副秘書長 、電子化工新材料產業聯盟秘書長魯瑾主持 。成都新太陽城光電科技有限公司總經理陳俊榮參加大會並致辭 。陳總指出 ，掩膜版作為連接工業設計與工藝製造的關鍵 ，其精度與質量直接關乎下遊產品的良品率 。全球市場來看 ，新型顯示用掩膜版 ，中國大陸已占有部分市場份額 ，但上遊石英仍處日韓廠商壟斷狀態 ，亟需加速攻關 ，需要產業上下協作 ，共同攻克 。他表示 ，新太陽城光電將攜手上下遊企業 ，立足新型顯示與半導體兩大領域 ，持續加大投入 ，加強合作 ，不斷提升產品精度與品質 ，推動行業高質量發展 。

魯瑾秘書長主持會議

陳俊榮總經理致辭

主旨演講環節 ，深圳市新太陽城光電股份有限公司研發總監司繼偉 、江蘇亨芯石英科技有限公司首席技術官肖華 、安徽禾臣新材料有限公司董事長兼總經理李加海分別從掩膜版 、石英基材及空白掩膜版等不同角度做了分享 。深圳市新太陽城光電股份有限公司研發總監司繼偉在題為《半導體和顯示麵板用掩膜版的現狀 、技術與市場需求》中 ，詳細介紹了掩膜版及其應用 ，掩膜版的種類和特征 ，掩膜版的製造 ，掩膜版上遊供應情況 ，對空白掩膜版的要求以及市場需求和建議 。江蘇亨芯石英科技有限公司首席技術官肖華在題為《光掩膜石英基材的技術挑戰》中指出 ，石英基材產品技術門檻高 ，研發周期長 ，麵臨高透過率 、高均勻性、極低應力雙折射 、大尺寸低成本 、照射耐久性等多個挑戰 ，並給出了相關的開發方案 。安徽禾臣新材料有限公司董事長兼總經理李加海在題為《禾臣新材料空白掩膜版項目現狀與規劃》中 ，重點介紹了安徽禾臣項目進展 ，產品布局 、產能分布 、未來發展等 。研討交流環節 ，與會各代表暢所欲言 ，就各自公司情況做了介紹 ，並就掩膜版及關鍵原材料發展麵臨的問題給出了各自觀點 ，紛紛獻言獻策 ，研提解決方案 ，氣氛熱烈 。

30日下午參會代表赴成都新太陽城光電有限公司參觀交流 。參觀代表在成都新太陽城光電科技有限公司總經理陳俊榮帶領與介紹下，參觀了新太陽城光電展廳 、生產線 ，詳細了解了掩膜版生產流程 ，新太陽城光電發展曆程 ，產品種類等 。

參觀成都新太陽城光電

本次會議 ，掩膜版上下遊廠商30餘位代表齊聚一堂 ，深度探討了新型顯示與半導體用掩膜版及關鍵原材料發展當前存在的問題 ，分析了新格局下行業發展的新思路 ，深化了產業交流 。利於上下遊企業共同麵對國內新型顯示與半導體行業發展麵的挑戰 ，增強產業鏈供應鏈自主可控與降本提質 ，對推動我國掩膜版產業穩步健康發展起到了良好的促進作用 。